Tecnologia de monitoramento de gás a laser in situ de instrumentos quadrados ajuda a melhorar a eficiência da análise de processos industriais

Nome do produto: Analisador de gás de processo a laser in situ

Modelo do produto: GasTDL-3100

O analisador de gás de processo a laser in situ GasTDL-3100 é um instrumento de análise óptica de alto desempenho baseado na tecnologia de espectroscopia de absorção a laser de semicondutores sintonizável (TDLAS), com design para o controle de gás de processo industrial; Seu tempo de resposta é rápido, geralmente em segundos na medição in situ, para evitar o atraso de tempo causado pela medição de padrões, e pode medir a concentração de gás de reação on-line em tempo oportuno.

Características do Analisador de Gás de Processo a Laser in situ:

Adotando a tecnologia TDLAS, o gás medido não está sujeito à interferência cruzada do gás de fundo

Instalação no local, sem necessidade de pré-processamento de amostragem

Resposta rápida (T90≤4s), pode reagir a concentração de gás em tempo real

Medição on-line em tempo real, concentração de gás não é fácil de distorcer, alta precisão de medição

5, em alta temperatura, alta poeira, alta umidade, alta corrosividade, alta velocidade de fluxo e outros ambientes de medição difíceis com boa adaptabilidade

6, design à prova de explosão, alto fator de segurança

7, construção simples, sem componentes móveis, sem componentes de perda, sem manutenção

Parâmetros técnicos do analisador de gás de processo a laser in situ:

Medido: Composição do gás O2, CO, CO2, CH4*

* Nota: Cada conjunto de analisadores mede a concentração de um único componente de gás.