EUA KRI Fonte de íons Hall eH 400

NegociávelAtualização em07/20

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Visão geral

O projeto de baixo custo da fonte de íons KRI Hall eH 400 da empresa Kaufman, estabelecida pelo Dr. Kaufman em Xangai por meio de Betong, oferece alta corrente de íons, o tamanho e a energia de íons da fonte de íons Hall eH 400 são especialmente adequados para sistemas de vácuo de pequeno e médio tamanho, podem controlar baixas energias de íons, geralmente aplicados em revestimentos auxiliares de íons, pré-limpeza e gravação de íons de baixa energia. Tamanho: Diâmetro = 3,7 Alto = 3 Tensão de descarga / Corrente: 50-300eV / 5a Gás de operação: Ar, Xe, Kr, O2, N2, precursores orgânicos

Detalhes do produto

Características do produto KRI Hall eH 400:

BertonKRIFonte de íons HalleH 400Características:

1.Componente de ánodo removível-Fácil de manter;Durante a manutenção,Minimize o tempo de inatividade;Ánodo de reposição plug-and-play

2.Corrente de alta descarga de feixe amplo-Taxa uniforme de gravação;Alta eficiência de gravação;Revestimento auxiliar de íons elevadosIADEficiência

3.Multiusos-AplicávelLoad lock /Sistema de vácuo ultra alto

4.Conversão de plasma eficiente e controle de potência estável

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