Elipômetro de matriz Mueller ME-L

NegociávelAtualização em03/16

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ME-L Mueller Matrix Ellipsometer I, Introdução do produto: 1, gama espectral ultra-larga: fonte de luz composta de lâmpadas de deutério e halogênio

Detalhes do produto

Elipsómetro de matriz de Mueller ME-L

Introdução do produto:

1, gama espectral ultra-larga: a utilização de lâmpada de deutério e lâmpada de halogênio fonte de luz composta, cobertura espectral ultravioleta para infravermelho próximo (380-1000nm) suporte expandido para 200-1650nm

2, modulação de compensador de rotação dupla: rotação de alta precisão e controle sincronizado de gatilho para obter a coleta de dados espectrais de alta velocidade

Medição completa da matriz de Mueller: com base na configuração do compensador de rotação dupla, 16 elementos da matriz de Mueller podem ser obtidos de uma só vez, em comparação com o elipímetro espectral tradicional para obter informações de medição mais ricas e abrangentes.

4, super design de compensação de desvio de cor: tecnologia de compensação patenteada para adaptar-se aos requisitos de modulação de fase de alta precisão no espectro amplo do ultravioleta profundo ao infravermelho próximo

5, uma rica base de dados de materiais e modelos de algoritmos: centenas de bancos de dados de materiais, várias bibliotecas de modelos de algoritmos, cobrindo a grande maioria dos materiais ópticos atuais

Interface interativa guiada: operação interativa da interface homem-máquina guiada pelo software para fornecer aos usuários uma experiência operacional de alta qualidade

Capacidade de análise de nano-raster: modelo de algoritmo de análise avançado para obter vários ciclos de estrutura de nano-raster, largura de linha, altura de linha, ângulo de parede lateral, rugosidade e extração de informações geométricas

Parâmetros técnicos:

Funções básicas	Acesso único ao espectro da matriz de Mueller, Psi/Delta, N/C/S, R/T, etc.
Gama espectral	380-1000nm (210-1650nm opcional)
Tempo de medição	1-8s
Ângulo de entrada	45-90°
Tamanho da mancha	2-3mm/200um
Precisão repetitiva	0,005 nm (100 nm SiO2 de silício)
Precisão absoluta (Média de ar)	Parâmetros elípticos: ψ=45±0,05° Δ=0±0,01°
Precisão absoluta (Média de ar)	Matriz de Mueller: Elemento diagonal m = 1 ± 0,005 Elemento não diagonal m = 0 ± 0,005
Software de análise	Até centenas de bibliotecas de materiais ópticos para personalização do usuário
Software de análise	Simulação e análise de estruturas de rastres periódicas com películas ópticas homogênicas/heterogênicas multicamadas

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