Controlador de fluxo de massa MFC Série T MFC usa sensor térmico + válvula eletromagnética de baixo calor + tecnologia de sensor de pressão $ r $ n para satisfazer a precisão de medição mainstream ≤ 1.0% S.P. (25% - 100% F.S.) $r$nRepetitividade para produtos da indústria (≤0.2% F.S. )
Controlador de fluxo de massa MFCSérie T MFC
Sensor térmico + válvula eletromagnética de baixo calor + tecnologia de sensor de pressãoAtender à precisão de medição mainstream ≤±1,0% S.P. (25% - 100% F.S.) produtos da indústria de calibração repetitiva (≤±0,2% F.S.).
Princípio de medição térmicaUsando dois sensores de temperatura, um mede a temperatura inicial do gás e o outro mede a temperatura do gás após o aquecimento, o cálculo da diferença de temperatura e a combinação da capacidade térmica relativa do gás para calcular com precisão o fluxo de massa do gás sem compensar as mudanças de pressão e temperatura melhora a precisão da medição1- É.
Princípio de medição da diferença de pressão: O fluxo volumétrico do gás é calculado pela diferença de pressão gerada quando o fluxo de gás é medido em tempo real pelo sensor de fluxo diferencial de pressão através do elemento de redução, a válvula de controle ajusta a abertura com precisão de acordo com a medição e o feedback do sensor de fluxo para garantir que o fluxo de gás através do MFC coincida com os valores padrão2- É.
Medição de alta precisãoAdotando tecnologia avançada de sensores e processos de fabricação, é possível alcançar medição e controle de fluxo de gás de alta precisão, o erro de medição pode ser tão baixo quanto ± 0,5% de leitura, a repetitividade atinge ± 0,1%, para atender aos requisitos rigorosos de flutuação de fluxo em nanoescala no campo gaoduan, como semicondutores3- É.
Resposta rápidaEquipado com controladores PID e válvulas eletromagnéticas de alta velocidade, estes componentes podem corrigir desvios de fluxo em um período de tempo de milissegundos, com tempos de resposta geralmente inferiores a 100ms, para responder oportunamente a várias mudanças dinâmicas e garantir a estabilidade do fluxo1- É.
Amplo alcanceAmpla cobertura, desde pequenos fluxos até cenários de alta velocidade, por exemplo, de 0,1 sccm a 20.000 slpm, para atender às necessidades de diferentes cenários de aplicação3- É.
Compatível com vários gasesSuporta a medição e o controle precisos de vários gases, como N₂, Ar, H₂, SiH4, NH₂, CF4 e outros gases comuns, que podem ser mantidos com alta precisão em diferentes medições de gases através da tecnologia de calibração multi-gás14- É.
Boa estabilidadeComponentes-chave, como sensores e componentes de aquecimento, geralmente usam tecnologia de controle termostático para reduzir o impacto da deriva de temperatura na precisão da medição. Ao mesmo tempo, o processo de soldagem a laser é usado para fabricar o canal, evitando efetivamente a ocorrência de vazamentos, garantindo assim a precisão e a estabilidade a longo prazo dos resultados de medição.1- É.
Várias interfaces de comunicaçãoEquipado com interfaces de comunicação RS485, Profibus e outros, suporta a tela táctil para exibição em tempo real de temperatura, pressão, taxa / fluxo de trabalho e outros parâmetros, para facilitar a operação remota e o monitoramento do usuário, pode ser integrado com vários sistemas de controle de automação3- É.
Fabricação de semicondutores e eletrônicaControle preciso do fluxo de gás de reação em processos como processamento de wafer, deposição de película fina (CVD/PVD) e gravação (Etching) para garantir a estabilidade do processo e o desempenho do chip.
Indústria química e farmacêuticaUtilizado para controlar o fluxo de gases no reator, como O₂, CO2, etc., durante o processo de reação química para otimizar a taxa de reação e a qualidade do produto.
Produção de novas energias e células de combustívelA regulação do fluxo de entrada de hidrogênio e oxigênio para otimizar a eficiência da reação eletroquímica e a potência de saída da bateria também pode ser usada para controlar a separação e o fluxo de oxigênio e oxigênio durante a eletrólise e gerenciar o fluxo de gás durante a captura e compressão de CO2.
Monitoramento Ambiental e LaboratórioO fluxo de gás padrão é fornecido para equipamentos como cromatográfico de fase de gás (GC), espectrômetro de massa (MS), e também pode ser usado para controlar com precisão o fluxo de amostragem de gás em equipamentos de monitoramento ambiental, como PM2.5, detecção de COV, etc.
